中国工場の設備紹介です！
ネオジム焼結磁石を製造する工程の中で、 水素を使用しインゴットを粉砕する工程があります。
材料であるネオジムを約3割、鉄を約6割、ボロンを含む添加原料を約1割 それぞれ【配合】した後、約1500℃に達するストリップキャスト炉（SC炉）で 原料を【溶解】します。
【溶解】された原材料を水冷回転ロールに流し込み、 急冷却しする事で写真左の様な 0.15mm～0.35mm厚のチップ状の インゴットが出来上がります。 チップ上のインゴットを製造する工程が、【溶解】になります。
【溶解】の次工程で【粉砕】を行います。この時に使用するのが、水素炉です。 粉砕工程は、粗粉砕と微粉砕に分かれており、 水素を使用しインゴットを脆くする水素脆性により、 板状だったインゴットを粒径0.5～1.0mmのサイズに粗粉砕する工程を行います。 この工程で必須な設備である水素炉を増設しました。
【粗粉砕】したインゴットをさらにジェットミルによりガスを吹き付け 粗粉砕の粉を互いに衝突させ粒径を4～5μmへ【微粉砕】します。 微粉砕の工程を経た後、更に粒径サイズの差を均一になるように 【混合】し【成型】を行う事で、 ネオジム焼結磁石の母材が出来上がります。
今回、の増設で1度に1.8トン処理が出来る大型水素炉を2023年8月に 4台導入しました。 
第1期計画として、外注委託も合わせ 年間7,000トンの水素処理が可能になります。 第2期では、年間12,000トン処理を可能にするため、 更に水素炉を追加導入する事も検討しています。
これからも弊社のチャレンジは続いてまいりますので、どうぞご期待下さい。
